真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材(筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。
鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移現(xiàn)象的原因及解決方法
一.鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移現(xiàn)象的原因:
1.所選用的膠粘劑不合適。
2.鍍鋁層與基膜之間的結(jié)合牢固度比較差。
3.張力控制不當(dāng),影響到鍍鋁膜鍍鋁層的附著力,進(jìn)而產(chǎn)生鍍鋁層遷移。
二.相對應(yīng)的解決辦法:
1.選擇合適的鍍鋁膜膠粘劑。
2.選擇質(zhì)量高的鍍鋁膜,例如廣盈牌鍍鋁膜。
3.對張力進(jìn)行適當(dāng)?shù)脑O(shè)置調(diào)整,一般來說,張力應(yīng)大一些,防止鍍鋁膜發(fā)生較大的彈性形變。
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