鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性,不但對氧氣和水蒸汽有較強的阻隔性,而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線,可以延長內(nèi)容物的保存期和貨架壽命,因此,對于食品、藥品以及其它一些需要延長保存期的產(chǎn)品來說,采用鍍鋁薄膜作為包裝是一種相當不錯的選擇,可以防止由于吸濕、透氧、光線照射等原因而使食品或者內(nèi)容物發(fā)生腐爛、變質(zhì)等現(xiàn)象。此外,鍍鋁膜還具有保香性,香氣透過率小,能夠長久保持內(nèi)容物的香氣不散失。因此,鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?!盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點,低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復性好等。缺點是設(shè)備比較復雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。
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