首先鍍鋁膜復(fù)合產(chǎn)品具有塑料薄膜的特性;其次表面一層致密的“鍍鋁”有較好的阻隔效果;同時在外觀上也比較鮮艷,從而起到美化產(chǎn)品的包裝效果;另外它在一定程度上替代了鋁箔復(fù)合包裝,從而降低了包裝成本。
鍍鋁膜具有比較好的金屬光澤和良好的反射性,給人一種富麗華貴的感覺,用它來包裝商品可以起到美化商品、提高商品檔次的作用。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?!盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點,低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點是設(shè)備比較復(fù)雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。
華福包裝材料公司一如既往地嚴格控制產(chǎn)品質(zhì)量,優(yōu)化客戶服務(wù)體系。通過批發(fā)將鍍鋁膜銷往全國各地。本著以質(zhì)取勝、以人為本、精益求精、嚴格管理的方針,大力加強科技投入,資源配置和新產(chǎn)品開發(fā),為需求群體提供的鍍鋁膜,努力擴大市場網(wǎng)絡(luò),爭創(chuàng)國內(nèi)實力產(chǎn)品。將陸運作為主打物流方式,本公司以適宜的價格和快捷的配送方式做到全l面滿足客戶的需求。
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